技術文章
Technical articles在半導體、傳感器、材料測試領域，一臺高精度、高穩(wěn)定性的探針臺往往決定著實驗數(shù)據(jù)的可信度與可重復性。而當“微型化”遇上“高低溫真空環(huán)境”，一場關于精密測試的變革就此展開。今天，我們要介紹的正是這樣一款來自鄭州科探儀器設備的明星產(chǎn)品——新微型高低溫探針臺KT-Z4019M4T-RL。一、小巧機身，大有可為KT-Z4019M4T-RL腔體外尺寸僅為150mm×90mm×35mm，重量在不銹鋼材質(zhì)下約1.5kg，真正做到了“桌面級”便攜。然而，小巧并不代表功能的妥協(xié)。腔體內(nèi)尺寸：12...
在半導體器件、材料科學及微電子封裝測試領域，一臺穩(wěn)定、精準且易于操作的真空探針臺是實驗室中的核心設備。今天，為大家介紹KT-Z160T-RL真空探針臺，看看它是如何助力科研人員高效完成高精度電學測試的。一、產(chǎn)品概覽KT-Z160T-RL專為真空環(huán)境下的高低溫電學檢測設計，可廣泛應用于微電子、半導體、MEMS、光電材料等領域的器件表征與可靠性測試。二、核心功能亮點1.高精度三軸探針移動系統(tǒng)探針臂支持X/Y/Z三軸獨立微調(diào)，所有移動均在真空環(huán)境下完成，調(diào)節(jié)順滑、響應靈敏：X軸行程...
7寸人機界面｜5段程序鍍膜｜可擴展膜厚監(jiān)測在科研與半導體制備中，鍍膜的均勻性、附著力和工藝可重復性，往往決定了最終器件的性能。直流磁控濺射因其濺射速率快、成膜致密、與金屬電極制備兼容性好，正成為越來越多實驗室和量產(chǎn)線的首1選。今天介紹的這款7寸人機界面直流磁控濺射設備，不僅覆蓋了常規(guī)電鏡制樣需求，更向功能薄膜與電極制備方向做了系統(tǒng)優(yōu)化。一、控制與電源：讓人機交互更簡單設備采用7寸人機界面，支持手動與自動模式切換。新手可以快速上手手動調(diào)節(jié)，熟練后一鍵調(diào)用自動程序。直流濺射電源最...
一體化集成渦旋無油真空泵，以動靜渦旋盤的嚙合運動為心臟，正通過多維度結構革新，重塑干式真空技術的性能天花板。一、動平衡優(yōu)化——消除振動之源。動渦旋盤的偏心運動必然產(chǎn)生離心力，這是振動與噪聲的元兇。當前優(yōu)方案是將傳動機構簡化為平行四桿機構，采用二次平衡法推導質(zhì)心位置方程，以ADAMS進行參數(shù)化仿真，以主軸離心合力為目標函數(shù)、大小平衡塊尺寸為設計變量進行優(yōu)化。大平衡塊置于主軸靠近曲軸端并以鍵連接，小平衡塊置于電機端以螺釘固聯(lián)于聯(lián)軸器表面，優(yōu)化后經(jīng)ANSYSWorkbench有限元...
在生物、化學及醫(yī)學實驗室中，樣品保存的穩(wěn)定性直接關系到實驗結果的可靠性。試管作為常見的實驗容器，其封口方式多種多樣，其中一種技術被稱為試管真空封口。這項技術通過特定的裝置將試管內(nèi)部空氣抽出，形成負壓環(huán)境，再以密封材料封閉管口，從而實現(xiàn)對內(nèi)容物的保護。試管真空封口的核心在于“真空”狀態(tài)的建立。當試管內(nèi)部氣壓低于外部大氣壓時，管口會因壓力差而緊密貼合密封件，形成物理屏障。這種密封方式不同于簡單的橡膠塞或螺旋蓋，它依賴的是內(nèi)外氣壓的差異，而非單純的機械擠壓。實際操作中，通常使用真空...
渦旋無油真空泵以潔凈無油、低噪穩(wěn)定著稱，廣泛用于半導體、醫(yī)藥、食品等領域。養(yǎng)好它，靠的是日常功夫與故障快判。日常維護：五項必修第一，勤清潔。進氣口灰塵堆積達1mm時抽氣效率下降約10%，故每周須用軟布擦拭進排氣口，必要時壓縮空氣吹掃，進氣過濾器建議每3至6個月更換。第二，控溫度。電機溫度每升高10℃壽命減半，須確保運行不超70℃，定期清理散熱片與風扇積灰。第三，查密封。每月用肥皂水涂抹閥門連接處，有氣泡即密封不嚴，須及時更換O型圈等密封件。第四，規(guī)范操作。開機前空載跑合5至1...
在實驗室與家庭廚房中，試管真空封口技術正逐漸走入人們的視野。這種看似簡單的操作，背后卻蘊藏著巧妙的物理原理與實用價值。核心在于利用機械或電動裝置，將試管內(nèi)部的氣體抽出，形成低于大氣壓的負壓環(huán)境。具體過程可分為三步：1.密封準備：將待保存的樣品或食材放入試管后，將特制的橡膠塞或塑料蓋置于管口。這類密封件通常帶有單向閥結構，允許氣體單向流出，但阻止外部空氣進入。2.抽氣階段：通過手動泵或電動真空泵連接密封件的接口，啟動抽氣。泵體內(nèi)部活塞或葉輪旋轉，將試管內(nèi)空氣分子逐出。隨著氣體減...
問：在使用中為什么有些金屬鍍不上？答：直流磁控濺射儀器針對不同金屬需要調(diào)整不同的參數(shù)，靶材厚度、本底真空度、氬氣環(huán)境、電流大小、磁場強弱都對鍍膜起著決定性的作用。比較容易鍍的金屬銅、銀、金等，日常鍍膜不容易鍍的金屬鉻、鎳、鋁、鈦等問：為什么剛開始使用時可以鍍上，用過一段時間就不太好鍍了？答：可能存在磁場減弱，導致磁場無法穿透有些靶材。形成原因可能是在鍍膜時候忘記打開水冷機，高溫導致靶頭字長減弱，磁場很難穿透厚的樣品，難以起輝。建議在選擇靶材的時候可以選擇薄一些的靶材，且在設備...
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